Wafers Silicium

Wafers Silicium

Les wafers sont utilisés pour la fabrication de substrats et de membranes de Silicium.
Les paramètres ci-dessous correspondent à nos modèles standards.
Nous pouvons sur demande proposer des wafers avec des caractéristiques différentes.

Accès direct aux brucelles pour wafers : brucelles

Nos wafers Silicium

Spécifications principales des modèles que nous tenons en stock :

  • Orientation : <100> (sauf P/N WAK3PN-2FP, <111>)
  • Croissance : CZ (sauf P/N WAFERS2PFZ-2FP, FZ)
  • Résistivités : 1-20 Ω.cm et < 1 Ω.cm (voir tableau ci-dessous)
  • Avec méplats
  • Conditionnement : boîte de 25 pièces

Nous pouvons vous proposer des wafers avec des caractéristiques différentes. Il vous suffit de remplir les cases du tableau "Nos produits sur mesure", avec vos propres spécifications.

Nos produits en stock

P/N Ø Ep. (µm) Type / Dopant Faces polies Résistivité (Ω.cm) Ra (nm) Quantité
WAFERS2 2" 280 n-P 1 1-20 < 0.5 Ajouter
WAFERS2-2FP 2" 280 n-P 2 1-20 < 0.5 Ajouter
WAFERS2-400 2" 400 2 Ajouter
WAFERS2PFZ-2FP 2" (FZ) 500 p-B 2 > 100 Ajouter
WAK2PN 2" 280 n-P 1 1-20 < 4 Ajouter
WAK2PP 2" 280 p-B 1 1-20 < 4 Ajouter
WAK2NFR 2" 300 n-As 1 0.001-0.005 < 4 Ajouter
WAK2PFR 2" 275 p-B 1 0.03-0.05 < 4 Ajouter
WAS2 2" 280 n-P 1 1-10 < 1 Ajouter
WAK3PN 3" 380 n-P 1 1-20 < 4 Ajouter
WAK3PN-2FP 3" (111) 1000 n-P 2 < 4 Ajouter
WAFERS4P 4" 525 n-P 1 1-20 < 0.5 Ajouter
WAFERS4P-2FP 4" 525 n-P 2 1-20 < 0.5 Ajouter
WAK4PN 4" 525 n-P 1 1-20 < 4 Ajouter
WAK4NFR 4" 500 n-As 1 <0.005 < 4 Ajouter
WAK4PFR 4" 525 p-B 1 0.01-0.02 < 4 Ajouter
WAS4P1020 4" 525 n-P 1 10-20 < 0.5 Ajouter
WAS4P510 4" 525 n-P 1 5-10 < 0.5 Ajouter

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Nos produits sur-mesure

Diamètre Epaisseur et faces polies Autres spécifications Quantité
2" (50.8 mm) Ajouter
3" (76 mm) Ajouter
4" (100 mm) Ajouter
5" (125 mm) Ajouter
6'' (150 mm) Ajouter
8" (200mm) Ajouter
autres Ajouter

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Oxydation thermique

Nous proposons un service d’oxydation thermique (par voie sèche ou humide) de nos wafers (ou sur vos wafers). L’épaisseur de la couche d’oxyde peut aller de 50 nm à 5 µm. L’oxydation d’une seule face du wafer est également possible.

Nos produits sur-mesure

Traitement Diamètre wafer Si Epaisseur Quantité
Oxydation thermique Ajouter

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Nitruration

Nous proposons un service de nitruration Si3N4 (classique à 800°C ou low stress à 835°C) de nos wafers (ou de vos wafers). L’épaisseur de la couche peut aller de 50 nm à 1 µm.

Nos produits sur-mesure

Traitement Diamètre wafer Si Epaisseur Quantité
Nitruration Ajouter

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Dépôts sur wafers Si

Nous réalisons des couches métalliques (Ag, Al, Au, Cu, Pt, ...) sur nos wafers (ou vos wafers) par PVD (évaporation ou pulvérisation cathodique, sputtering). Une couche d'accroche (Ti ou Cr) peut être nécessaire.

Nous pouvons également proposer des multi-couches.

Nos produits sur-mesure

Traitement Diamètre des wafers Si Type de couches et épaisseur Quantité
Dépôt Ajouter

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Découpe de wafers Si

Nous proposons la découpe de wafers selon vos dimensions.

Exemples :

  • 10 mm x 10 mm
  • 5 mm x 5 mm
  • 5 mm x 10 mm, ...

Si vous désirez une offre, ou de plus amples informations sur ce produit : Contactez-nous

Boite individuelle pour wafer

Boite individuelle pour wafer

Boîtes individuelles pour wafer Silicium ou tout autre substrat, du 1" au 6".

Matériau : PP

Couleur : Transparent

Packaging :

  • à l'unité
  • par 25 pour compatibilité salle blanche
P/N Dimension wafers Packaging Quantité
BWA1 1" 1 Ajouter
BWA1-25 1" 25 Ajouter
BWA15 1.5" 1 Ajouter
BWA15-25 1.5" 25 Ajouter
BWA2 2" 1 Ajouter
BWA2-25 2" 25 Ajouter
BWA25 2.5" 1 Ajouter
BWA25-25 2.5" 25 Ajouter
BWA3 3" 1 Ajouter
BWA3-25 3" 25 Ajouter
BWA4 4" 1 Ajouter
BWA4-25 4" 25 Ajouter
BWA5 5" 1 Ajouter
BWA5-25 5" 25 Ajouter
BWA6 6" 1 Ajouter
BWA6-25 6" 25 Ajouter

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NEYCO
30 avenue de la Paix
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Tel:+33(0)1 41 90 50 50
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