Wafers Silicium

Les wafers sont utilisés pour la fabrication de substrats et de membranes de Silicium.
Les paramètres ci-dessous correspondent à nos modèles standards.
Nous pouvons sur demande proposer des wafers avec des caractéristiques différentes.

Accès direct aux brucelles pour wafers : brucelles

Nos wafers Silicium

Spécifications principales des modèles que nous tenons en stock :

• Orientation : <100> (sauf P/N WAK3PN-2FP, <111>)
• Croissance : CZ (sauf P/N WAFERS2PFZ-2FP, FZ)
• Résistivités : 1-20 Ω.cm et < 1 Ω.cm (voir tableau ci-dessous)
• Avec méplats
• Conditionnement : boîte de 25 pièces

Nous pouvons vous proposer des wafers avec des caractéristiques différentes. Il vous suffit de remplir les cases du tableau "Nos produits sur mesure", avec vos propres spécifications.

Oxydation thermique

Nous proposons un service d’oxydation thermique (par voie sèche ou humide) de nos wafers (ou sur vos wafers). L’épaisseur de la couche d’oxyde peut aller de 50 nm à 5 µm. L’oxydation d’une seule face du wafer est également possible.

Nitruration

Nous proposons un service de nitruration Si₃N₄ (classique à 800°C ou low stress à 835°C) de nos wafers (ou de vos wafers). L’épaisseur de la couche peut aller de 50 nm à 1 µm.

Dépôts sur wafers Si

Nous réalisons des couches métalliques (Ag, Al, Au, Cu, Pt, ...) sur nos wafers (ou vos wafers) par PVD (évaporation ou pulvérisation cathodique, sputtering). Une couche d'accroche (Ti ou Cr) peut être nécessaire.

Nous pouvons également proposer des multi-couches.

Découpe de wafers Si

Nous proposons la découpe de wafers selon vos dimensions.

Exemples :

• 10 mm x 10 mm
• 5 mm x 5 mm
• 5 mm x 10 mm, ...

Boite individuelle pour wafer

Boîtes individuelles pour wafer Silicium ou tout autre substrat, du 1" au 6".

Matériau : PP

Couleur : Transparent

Packaging :

• à l'unité
• par 25 pour compatibilité salle blanche